氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈（CeO2），其次分别为氧化镧（La2O3）、氧化镨（Pr2O3）、氧氟化镧（LaOF），此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。
氧化铈抛光粉生产工艺：
☆高铈系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化铈为原料，以物理化学方法加工成硬度大、粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。
其主要工艺过程为 : 原料 → 高温 → 煅烧 → 水淬 → 水力分级 → 过滤 → 烘干 → 高铈稀土抛光粉产品。主要设备有 : 煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。 主要指标 : 产品中w(REO)=99% ，w(CeO2)=99%; 稀土回收率约95%。该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（红粉）。
☆中铈系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65% ，w(CeO2)≥48%) 为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体( 沉淀剂) 使转化成 w(CeO2)=80% ～ 85% 的中级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:
原料 → 氧化 → 优溶 → 过滤 → 酸溶 → 沉淀 → 洗涤过滤 → 高温煅烧 → 细磨筛分 → 中级铈系 稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
主要指标 : 产品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土催化材料回收率约 95% ; 平均粒度 0.4 微米 ～ 1.3微米 。该产品适用于高速抛光，比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。
☆低铈系稀土抛光粉的制备
以少铕氯化稀土 (w(REO)≥45% ，w(CeO2)≥48%) 为原料，以合成中间体( 沉淀剂) 进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为 : 原料 → 溶解 → 复盐沉淀 → 过滤洗涤 → 高温煅烧 → 粉碎 → 细磨筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。
主要指标 : 产品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率约 95%; 平均粒径 0.5微米～ 1.5微米 。
目前，国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量多，约占总产量的 90% 以上。