稀土抛光粉生产原料
目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种：
（1） 氧化铈 (CeO2) ，由混合稀土盐类经分离后所得 (w(CeO2)=99%);；
（2） 氢氧化稀土 ( 富铈)：混合稀土氢氧化物 (RE(OH)3) ，为稀土精矿 (w(REO)≥50%) 化学处理后的中间原料 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%)；
（3） 稀土盐类：混合氯化稀土 (RECl3) ，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土 ( 主要含 La ， Ce ， Pr 和 Nd ，w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥50%)，包括氯化稀土、草酸稀土、碳酸稀土等；
（4） 单氟碳铈矿：高品位稀土精矿 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) ，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。
以上原料中除第 1 种外，第 2 ， 3 ， 4 种均含轻稀土 (w(REO)≈98%) ，且以 CeO2 为主， w(CeO2) 为48% ～ 50% 。
稀土抛光粉生产制备工艺流程介绍
一般制备工艺流程
按制备工艺，稀土抛光粉的生产制备工艺流程可细分为两大类：
1、以稀土精矿或铈富集物为原料的固相反应法
由矿石直接制备抛光粉可省掉繁杂的化学提取过程，而使生产成本大大降低。氟碳铈矿石（用REO＞68％的稀土精矿）粉碎、分级、化学处理、过滤、干燥、900℃以上煅烧、粉碎、分级、混合得含 CeO2 50％左右的氟碳铈矿系抛光粉，矿中的氟和硅对于产品的抛光效果起着重要作用。这种以氟碳铈矿为原料直接煅烧生产稀土抛光粉，无需合成中间体，制备工艺简单，虽然生产成本大大降低，但所得稀土抛光粉的档次不高。
2、以稀土可溶盐为原料的煅烧沉淀法
在沉淀法中，可以有多种途径，也更适合于通过调配化学组份来提高抛光性能，如加入氟硅酸进行共沉淀生产的抛光粉，加入硅灰石的高硅含量抛光粉等等。还可以通过控制技术条件来达到控制产品粒度的目的。如以氯化稀土为原料制取稀土抛光粉，经加入沉淀剂合成中间体等化学处理、烘干、煅烧、分级、加工得到产品。
由氯化稀土用不同的中间体制备抛光粉的方法有很多，如碱式盐法、草酸盐法 、碳酸盐法 、氢氧化物、硫酸复盐等。
（1） 氯化稀土用水溶解得氯化稀土溶液，用碱和氧化剂处理得氢氧化铈 ，再用酸处理得铈浓缩液，加入沉淀剂得沉淀物，经过于燥、煅烧、粉碎和分级、混合得到含 CeO2 80％一90％的氯化铈系抛光粉。
（2） 采用氯化稀土或分离后的铈富集物为原料，生产的稀土抛光粉质量好，但生产工序多，成本高。一般用硫酸铵、草酸、碳酸钠或碳酸氢铵及氨水作沉淀剂，经过煅烧、分级、过滤、烘干等步骤制得的抛光粉，CeO2片含量在 45％ 一55％左右，煅烧温度为 850 —950℃，煅烧时间为 2．5 —3h。但不同沉淀剂制备的抛光粉性能不同，其中以用硫酸铵作沉淀剂，经过碱化、氟硅酸氟化后所制得的抛光粉其抛蚀量，而以用碳酸氢铵及氨水作为沉淀剂、加水煮沸、氟硅酸氟化后所制得的抛光粉其抛蚀量差。
（3） 以轻稀土氯化物为原料，以硅氟酸及碳酸氢铵为沉淀剂得稀土氟碳酸盐沉淀、水洗、过滤、煅烧、筛球磨分等步骤。所制得的产品颗粒细、均匀、化学活性强、抛光效率高、应用领域广。
（4） 以碳酸稀土混合物(Ce02含量在45％左右)为原料制备高铈抛光粉工艺：碳酸稀土混合物经过煅烧生成氧化稀土，用酸处理得到 CeO (oH )2沉淀和三价稀土溶液，洗涤 CeO(OH)2沉淀、干燥、煅烧可得到 Ce02含量 98 —99％的高铈抛光粉，表面积 3—5m2／g，平均粒径1．5 —2um ，相对其它抛光粉有抛光能力，达到320mg／30m in。
相关制备工艺流程参考如下：
稀土盐类中碳酸稀土为原材料，生产制备稀土抛光粉流程：
按高、中、低CeO2含量区分铈系稀土抛光粉生产制备工艺流程
1、高铈系稀土抛光粉
主要以 稀土混合物分离后的氧化铈（如以“氯化稀土”分离）或以“氟碳铈矿”的中间产物,富铈富集物为初始原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。
其主要工艺过程为 :
原料 → 高温 → 煅烧 → 水淬 → 水力分级 → 过滤 → 烘干 → 高级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。
2、中铈系稀土抛光粉
用混合稀土氢氧化物 (w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%) 为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体 ( 沉淀剂 ) 使转化成w(CeO2)=80% ～ 85% 的中级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为 :
原料 → 氧化 → 优溶 → 过滤 → 酸溶 → 沉淀 → 洗涤过滤 → 高温煅烧 →细磨筛分 → 中级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
3、低铈系稀土抛光粉
主要为“氯化稀土、氟碳铈矿和少铕氯化稀土(w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥48%)，以及近年来采用少钕碳酸稀土为原料，以合成中间体 ( 沉淀剂 ) 进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为 :
原料 → 溶解 → 复盐沉淀 → 过滤洗涤 → 高温煅烧 → 粉碎 → 细磨筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。
另外，用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿(w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 为原料，直接用化学和物理的方法加工处理，如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为 :
原料 → 干法细磨 → 配料 → 混粉 → 焙烧 → 磨细筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有 : 球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。